200系列光刻機 —— TFT曝光
 SSB225 |
 SSB245 |
 SSB260 |
SSB200系列投影光刻機采用先進的投影光刻機平臺技術，專用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造，可應用于2.5代～6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，顯著降低用戶使用成本。
產品特征
● 高精度，分辨率可達1.5μm
● 支持小Mask，可用6英寸掩模實現12英寸屏幕制造
● 具備智能化校準及診斷功能，方便設備參數校調及用戶周期性維護
● 快速靈活的客制化服務
主要技術參數
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型號 |
分辨率 |
套刻精度 |
基板尺寸 |
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SSB225/10 |
2μm L/S |
0.6μm |
370mm×470mm |
|
SSB225/20 |
1.5μm L/S |
0.5μm |
370mm×470mm |
| SSB245/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 730mm×920mm |
| SSB245/20 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 730mm×920mm |
| SSB260/10T | 2μm L/S | 0.6μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
| SSB260/20T | 1.5μm L/S | 0.5μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
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